X射線(xiàn)粉末衍射儀XRD，通常應用于晶體結構的分析。X射線(xiàn)是一種電磁波,入射到晶體時(shí)在晶體中產(chǎn)生周期性變化的電磁場(chǎng)。引起原子中的電子和原子核振動(dòng),因原子核的質(zhì)量很大振動(dòng)忽略不計。振動(dòng)著(zhù)的電子是次生X射線(xiàn)的波源,其波長(cháng)、周相與入射光相同?；诰w結構的周期性,晶體中各個(gè)電子的散射波相互干涉相互疊加,稱(chēng)之為衍射。散射波周相一致相互加強的方向稱(chēng)衍射方向,產(chǎn)生衍射線(xiàn)。
適用領(lǐng)域：
1.材料晶體大小的測定期模擬計算。
2.半導體基底上薄膜生長(cháng)的納米材料分析。
3.納米材料中的物相定性分析。
4.納米氧化鋅陶瓷的參雜制備及物相分析、結構表征、性能和結構分析等。
5.單相和多相的全譜擬合計算和結構精修
操作規程：
一、開(kāi)機
1.開(kāi)啟墻壁總電源。開(kāi)啟循環(huán)水電源。開(kāi)啟穩壓電源（等5秒鐘后，按下“RESET" )。
2.開(kāi)啟XRD設備電源。
3.開(kāi)啟計算機電源，進(jìn)入XRD應用程序。
4．開(kāi)啟射線(xiàn)發(fā)生器高壓，進(jìn)入待測試狀態(tài)。
二、樣品放置、取出
1.嚴格按照規定制樣，樣品高度與樣品臺高度一致，壓平，保持樣品表面光潔平整。
2.按外側“OPEN DOOR”鍵解鎖，手動(dòng)開(kāi)啟玻璃艙門(mén)，將樣品臺放入樣品支架卡住，關(guān)閉艙門(mén)鎖好。取出樣品時(shí)，先按“DOOROPEN”鍵，手動(dòng)開(kāi)啟艙門(mén)，按下樣品支架后面撥片，樣品臺及樣品支架自動(dòng)下落，取下樣品臺，關(guān)閉艙門(mén)鎖好。
三、測試譜線(xiàn)
1.先初始化驅動(dòng)操作。先點(diǎn)Requested后面方框，然后點(diǎn)擊Initdrive。然后在程序界面中調整探測角度范圍，掃描速度和步長(cháng)。
2.根據測試需要，選擇合適寬度的狹縫。低于10度，須換最小狹縫。
3.在程序界面上選合適的電壓與電流，鼠標點(diǎn)左邊“SET”鍵加高壓。
4.在參數設置正確的情況下，點(diǎn)“START”,開(kāi)始采集譜線(xiàn)。
5.選擇需要的XRD譜數據，先保存到硬盤(pán)，再光盤(pán)刻錄導出數據。
四、關(guān)機
1.先在計算機XRD應用程序里將電壓和電流降到最小點(diǎn)擊”SET”。
2.需等“3分鐘”，待燈絲冷卻后，再逆時(shí)針旋動(dòng)高壓撥桿，關(guān)高壓。
3.再等“10分鐘”，待高壓部件冷卻后，斷開(kāi)儀器電源（儀器右下方外側，綠色圓鈕上面的紅色圓鈕)，指示燈滅掉。關(guān)閉穩壓電源。關(guān)閉循環(huán)水電源。
4.關(guān)閉計算機XRD 應用程序，關(guān)閉計算機。關(guān)閉墻壁大閘電源。
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