美國ISS是jin有的能同時(shí)提供時(shí)域TCSPC和數字頻域FastFLIM™兩種熒光壽命成像技術(shù)解決方案的公司，其推出的FLIM熒光壽命成像及熒光波動(dòng)光譜升級模塊，可以讓您現有的共聚焦顯微鏡擁有FLIM及FCS測試功能，可適配各種顯微鏡。

ELIMISSION Z118快速LIBS光譜分析系統是目前市場(chǎng)上較常用的臺式LISB元素分析儀。*的平臺使其能夠滿(mǎn)足客戶(hù)對再現性、堅固性、jing確性、準確性和靈敏度的要求。它能夠直接分析固體樣品（例如鐵、鋁、巖石等），而不用機械加工樣品制備，以去除樣品的氧化層（如火花-OES的情況）。LIBS光譜分析是目前為止被認為wei一可以做在線(xiàn)分析的元素分析技術(shù)；

ELEMISSION MISSION激光誘導擊穿光譜生產(chǎn)線(xiàn)使用幾種高新技術(shù)以達到高吞吐量的化學(xué)分析過(guò)程。ELEMISSION MISSION LIBS激光誘導擊穿光譜快速產(chǎn)線(xiàn)分析系統符合精度、性能、吞吐流量和分析速度的*的市場(chǎng)標準。產(chǎn)品線(xiàn)能夠通過(guò)激光誘導擊穿光譜（LIBS）實(shí)時(shí)進(jìn)行快速元素分析，可用到回收，礦物篩選和土壤分析等。

ISS HPCell 光譜儀通用高壓樣品倉系統包含壓力樣品倉，靜壓泵，控制系統以及數據采集模塊。整套系統可直接裝配于ISS公司的所有熒光光譜測試系統中，也可作為獨立附件適配于其他品牌的光譜儀系統。

半導體技術(shù)的一個(gè)重要目標是減少所有構成半導體器件中，晶體和非晶層中固有的和因生產(chǎn)工藝引起的缺陷。雜質(zhì)、晶界、晶面等引起的缺陷會(huì )導致陷阱的產(chǎn)生，陷阱可以俘獲自由電子和空穴。即使濃度非常低，陷阱也能ji大地改變半導體器件的性能。數字化深能級瞬態(tài)譜儀DLTS是現在一種非常通用的技術(shù)，可用于測定與陷阱相關(guān)的幾乎所有參數，包括密度、熱界面（熱發(fā)射率）、能級和空間剖面等。